Biased Double Arc Plasma CVD법에 의해 제조된 TiC 피복층의 온도와 압력이 미치는 영향에 관한 연구 A Study on the influence of Temperature and Pressure on TiC Film Deposited by Biased Double Arc Plasma CVD
한국기계기술학회지
(韓國機械技術學會誌)
제5권 제1호
(2003.06)
pp.125-130
pp.125-130
한국기계기술학회
(Korean Society of Mechanical Technology)
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
3.1 증착층의 우선 성장 방위
3.2 증착층 표면의 형상변화
3.3 온도에 따른 증착층의 두께변화
3.4 압력에 따른 증착층의 두께변화
3.5 증착층의 경도
4. 결론
참고문헌
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
3.1 증착층의 우선 성장 방위
3.2 증착층 표면의 형상변화
3.3 온도에 따른 증착층의 두께변화
3.4 압력에 따른 증착층의 두께변화
3.5 증착층의 경도
4. 결론
참고문헌
저자