열처리 조건이 BST 박막의 결정성과 전기적 특성에 미치는 영향

주재현; 주승기

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열처리 조건이 BST 박막의 결정성과 전기적 특성에 미치는 영향 KCI 등재 SCOPUS

Effects of heat treatment conditions on the crystallinity and electrical characteristics of co-supttered BST this films

주재현, 주승기

언어KOR
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제5권 제5호 (1995.08)
pp.518-524

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

초록

BST 박막을 Pt/SiO2/Si 기판위에 co-sputtering 방법으로 형성할 때 열처리 조건이 BST 박막의 결정성과 전기적 특성에 미치는 영향에 관하여 연구하였다. BST 박막의 특성은 급속 열처리나 관상로 열처리과 같은 후열처리 온도보다 증착시의 기판온도에 따라서 민감하게 변화하였고, 기판 온도를 550˚C로 하여 증착할대 Perovskite상이 가장 안정적으로 성장하여 유전율 1100, 유전손실계수 0.02로 우수한 유전특성을 나타내는 막을 형성할 수 있었다. BST 박막은 기판온도를 증가하면 정합에너지와 표면에너지를 최소로하는 (111) 방향으로 우선방위를 나타내었고 결정립의 조대화 현상으로 누설전류가 증가하였다.

저자

주재현 | Ju, Jae-Hyeon
주승기 | 주승기

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