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유도결합 N2O 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 저온성장과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터에의 영향 KCI 등재 SCOPUS

Silicon Oxidation in Inductively-Coupled N2O Plasma and its Effect on Polycrystalline-Silicon Thin Film Transistors

원만호, 김성철, 안진형, 김보현, 안병태
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296070
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제12권 제9호 (2002.09)
pp.724-728
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
inductively-coupled N2O plasmalow-temperature oxideinterface chargenitrogen passivation
저자
  • 원만호 | Won, Man-Ho
  • 김성철 | 김성철
  • 안진형 | 안진형
  • 김보현 | 김보현
  • 안병태 | 안병태
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