안면부 CT검사 시 치아교정용 충전물과 주변 해부학적 구조와의 밀도차이에 의해 발생한 화질 저하 정 도와 화질개선 방향을 실험을 통해 정량 및 정성적 분석방법을 통해 알아보고자 하였다. 실험은 64-MDCT (Discovery 750 HD, GE HEALTH CARE, Milwaukee, USA)를 사용하여 치아 충전물로 교정한 치아를 스캔 하였으며 관전압 변화, 실리콘 적용, MAR 알고리즘 적용 유무에 따라 비교하였다. 그 결과 관전압 변화 시 140 kVp에서 10.36 % CT value가 감소하였으며, Silicon 물질 적용 시 약 5.81 %가 감소하여 감소율이 가장 적었다. 정성적 평가결과 MAR 알고리즘 적용 시 관찰자 10명 중 Equivalent가 7명, Acceptable로 3명이 평가하여 MAR 알고리즘 적용 시 상대적으로 가장 화질 개선 효과가 있다고 평가되었다. 따라서 현재 임상 에서 사용하고 있는 검사 파라미터와 더불어 고밀도 인공물을 감소시킬 수 있는 다양한 알고리즘을 적용 하여 스캔 한다면 방사선 피폭선량에 대한 불필요한 부담을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 고밀도 인공물을 감 소시켜 영상 데이터의 소실을 줄여 보다 많은 영상정보를 제공 할 수 있을 것으로 사료된다.

For QTL analysis of agronomic traits based on cultivation of low and high altitude locations, BC1 F5 181 lines were developed from a cross of Tongil type Gayabyeo and japonica Chhomrong originated from Nepal. Plant materials were grown in both of low altitude area of Milyang, Korea and high altitude area of Khumaltar, Nepal. In QTLs analysis, a total of 42 QTLs were detected in days to flowering, culm length, panicle length, number of panicles/hill, panicle exertion, and spikelet ripening ratio. Although many of the QTLs were coincided between the two locations of Korea and Nepal, several QTLs were revealed as location specific in high altitude area of Khumaltar. Especially, the regions harboring marker RM489-RM14281 on chromo- some 3, RM5642-RM19049 on chromosome 5, and RM2854-RM6696 on chromosome 12 where QTLs were clustered and coincided between the two locations are considered as positive target regions for environmental independent traits. Furthermore, high rate of location specific QTLs such as panicle exertion and spikelet ripening ratio could be considered carefully for understanding the mechanism of cold tolerance based on cultivation of different altitude location.

방해석 표면에 의한 Cd2+의 흡착연구를 하였다. 흡착실험에서 사용한 Cd의 농도는 10-8 로서 CdCO3(s)의 침전농도 보다 낮은 농도를 유지하도록 조절하였다. NaClO4를 전해질로 사용하여 이온농도를 달리 한 실험 결과 Cd2+의 흡착은 용액의 이온세기와는 무관한 것으로 나타났다. 이는 Cd2+의 방해석 표면 흡착이 특징적인 성질을 갖고 inner sphere surface complex를 형성한다는 것을 암시한다. 흡착반응은 초기의 매우 빠른 흡착시기와 후기의 지속적인 느린 흡착시기의 2단계로 구분되었다. 특히, 후기의 느린 흡착시기에는 약 145시간 경과 후 최대정상상태 (steady state maximum)에 도달하였다. 본 연구에서 사용한 Cd2+의 농도가 낮아 방해석 표면에 CdCO3(s)의 침전 형성에 의한 반응은 고려되지 않았다. 방해석 표면으로부터 Cd2+의 탈착반응은 일정시간의 흡착 반응이 경과된 후 초기 흡착 실험 시와 같은 농도의 과포화 용액을 사용하여 Cd2+을 흡착한 방해석이 새로운 용액에 재 평형을 이루도록 반응을 유도하였다. 일반적으로 탈착실험에서는 새로운 과포화용액에 방해석을 넣자마자 매우 빠른 탈착반응을 보여준다. 그 이후는 2가지의 다른 경향성을 보여주며 새로운 평형에 도달하는 것으로 나타난다. 초기의 빠른 탈착반응 시기 뒤 느린 흡착반응이 지속적으로 일어나 일정 시간 경과 후 다시 평형을 이루거나, 느린 탈착반응이 계속적으로 지속되어 일정 시간 경과 후 새로운 평형을 이루는 2가지로 나타났다. 이러한 부분적으로 비가역적인 흡착 반응과 탈착반응은 실제 자연계에서 Cd2+의 유동성을 결정짓는 매우 중요한 인자로 작용할 것으로 생각된다. 흡착 반응 및 탈착반응의 평형상수 값은 이들 반응이 서로 동일한 기작에 의하여 조절됨을 보여주었다.