본 연구에서는 반도체 세정공정에서 발생되는 IPA를 재활용하기 위하여 NaA 제올라이트 막을 이용한 투과증발 공정을 검토하기 위한 기초실험을 수행하였다. 공정에 사용한 NaA 제올라이트 막은 전 농도 범위에서 우수한 분리성능을 보였고, 고온조작에서도 분리성능이 매우 우수하였다. 조작온도 50에서 공급원액의 농도가 90 wt%일 때, 투과유속은 약 1,500 g/m2/hr분리계수는 1,000 이상을 얻을 수 있었다. 또한, 연속조작에서 IPA의 탈수농축에 따른 평균 투과유속은 약 1,000 g/m2/hr를 얻을 수 있었다.

This study was carried out the fundamental experiment to investigate the pervaporation process through NaA zeolite membrane for recycling the wasted isopropyl alcohol(IPA) in semiconductor cleaning processes. The NaA zeolite membrane used showed the excellent separation performance for full range of feed concentration and at high temperature operation. At 80 in operation temperature and 90 wt% IPA in feed concentration the separation performance was obtained about 1,500 g/m2/hr in the permeation flux and more than 1,000 in the separation factor. In continuous operation of dehydration of IPA the average permeation flux was obtained about 1,000 g/m2/hr at 80 and 90 wt% IPA feed concentration

• 최호상(경일대학교 화학공학과) 주저자
• 김재홍(경일대학교 화학공학과)
• 이석기(동일시마즈(주))
• 박헌휘(호서대학교 환경공학과)