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초고집적 반도체 미세가공기술(mircrolithography)
백기호
,
정민호
,
이근수
,
김형수
언어
KOR
URL
https://db.koreascholar.com/Article/Detail/282012
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한국화상학회지
(Journal of Korean Society for Imaging Science and Technology)
제4권 제1호 (1998.01)
pp.56-63
한국화상학회
(Korean Society for Imaging Science and Technology)
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목차
1. Introduction
2. The Lithographic Process: Physics
3. Photoresist
4. Resist Processing
5. Conclusion
인용문헌
저자
백기호(현대전자 선행기술 연구소)
정민호(현대전자 선행기술 연구소)
이근수(현대전자 선행기술 연구소)
김형수(현대전자 선행기술 연구소)
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