열산화법 및 PECVD 법에 의한 Ta2O5 유전 박막 - koreascholar

논문 상세보기

열산화법 및 PECVD 법에 의한 Ta2O5 유전 박막 KCI 등재 SCOPUS

Ta2O5Dielectric Thin Films by Thermal Oxidation and PECVD

문환성, 이재석, 한성욱, 박상균, 양승기, 이재학, 박형호, 박종완

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/294619

구독 기관 인증 시 무료 이용이 가능합니다. 4,000원

한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제2권 제5호 (1992.10)
pp.353-359

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

저자

문환성 | Mun, Hwan-Seong
이재석 | 이재석
한성욱 | 한성욱
박상균 | 박상균
양승기 | 양승기
이재학 | 이재학
박형호 | 박형호
박종완 | 박종완

같은 권호 다른 논문