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Taguchi 방법을 사용한 콘택 산호막 식각 공정 최적화 연구 KCI 등재 SCOPUS
Studies on the Optimization of Contact Oxide Etching Process Using Taguchi Method
전영진, 김창일, 구진근, 유형준
- 언어KOR
- URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/294840
4,300원
한국재료학회지
(Korean Journal of Materials Research)
제5권 제1호 (1995.02)
pp.63-74
pp.63-74
한국재료학회
(Materials Research Society Of Korea)
초록
클러스터형의 다중 공정용 장치에 부착키 위해 제작된 콘택 산화막 식각용 공정모듈에 대한 적정 식각 공정조건을 확립하기 위해, Taguchi 방법을 활용하여 공정최적화 실험을 수행하였다. Taguchi 실험은 2회에 걸쳐 시행되었는데, 제1차 실험은 장비변수에 대한 식각공정변수의 개괄적 거동을 타진하기 위함이었고, 제2차 실험은 상세 공정조건 확립을 위해서였다. 실험 및 분석 결과 CHF3/CF4 가스유량은 72/8sccm, 공정압력은 50 mTorr, RF 전력은 500 Watts, 자계강도는 90 Gauss일때 최적 공정 성능을 발휘함을 알 수 있다.
저자
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