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유기금속 화학증착법을 사용한 AIGAInP층의 Zn 도우핑 농도의 특성 KCI 등재 SCOPUS

Characterization of Zn Doping in AIGaInP Epitaxy Layer Grown by MOCVD

  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295078
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
초록

저압 유기금속 화학증착법을 사용하여 AIGaInP층의 diethylzinc의 III족 원소(AO, Ga, In)에 대한 비와 성장온도 변화에 따른 Zn(acceptor)의 첨가 농도특성을 연구하였다. Diethylzinc의 III족 원소(AI, Ga, In)비를 0.4에서 2.0까지 변화시켜 본 결과 0.85일 때 가장 높은 acceptor 농도를 가졌으며, 성장온도를 690˚C에서 800˚C까지 변화시킨 결과 성장온도에 대한 변화는 690˚C-730˚C일 때 온도가 증가함에 따라 acceptor농도는 커졌으며, 그 이상에서는 감소하였다. 또한, 성장속도가 빠를수록 높은 acceptor 농도를 가지게 되어 3.3μm/hr의 성장속도일 때 8x1017/㎤의 가장 높은 acceptor 농도를 얻을수 있다.

저자
  • 윤기현 | Yun, Gi-Hyeon
  • 김남헌 | 김남헌