ECR PECVD법에 의한 페로브스카이트상(Pb, La)TiO3 박막 증착 연구

정성웅; 박혜련; 이원종

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ECR PECVD법에 의한 페로브스카이트상(Pb, La)TiO3 박막 증착 연구 KCI 등재 SCOPUS

A Study on the Fabrication of Perovskite (Pb, La)TiO3 Thin Films by ECR PECVD

정성웅, 박혜련, 이원종

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295123

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제7권 제1호 (1997.01)
pp.33-39

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

초록

ECR PECVD법에 의해 Pt/Ti/SiO2/Si 다층 기판 위에 480˚C에서 순수한 페로브스카이트상의 PLT박막을 증착하였다. PLT 박막 증착전 ECR산소 플라즈마내에서의 Pb(DPM)2 pre-flowing처리는 Pb(DPM)2의 공급을 안정화시켜주며 박막증착초기에 Pb성분이 풍부한 분위기를 조성해 줌으로써 페로브스카이트 핵생성을 용이하게 하여 PLT박막 특성을 향상시켰다. Ti-source 유입량을 변화시킬 때 PLT박막의 증착특성, 조성, 결정상 그리고 전기적 특성을 관찰하였다. PLT박막은(100)으로 우선 배향되었으며 화학양론비가 잘 맞는 경우 높은 페로브스카이트 X-선 회절강도와 높은 유전율을 나타내었다.

저자

정성웅 | Jeong, Seong-Ung
박혜련 | 박혜련
이원종 | 이원종

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