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TDEAT와 NH3 예비혼합 처리가 MOCVD TiN형성에 미치는 영향 KCI 등재 SCOPUS

Effect of Premixing of TDEAT and NH3 on TiN Formation

  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295198
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
초록

TDEAT(TI[N(C2H5)2]4)와 NH3반응기체를 이용하여 MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)TiN 박막을 형성하였다. 반응기체들은 chamber내에 주입하기 전에 적절한 기상반응을 유도시켜 주었으며, TiN박막 형성에 미치는 예비혼합 효과를 관찰하였다. 두 반응기체의 예비혼합을 이용하여 낮은 탄소의 함유와 함께 -800μΩㆍcm의 비교적 낮은 비저항을 나타내었다. 또한 NH3의 유량 증가에 따라 도포성이 상당히 증가되고 있는데 이같은 도포성 향상 효과는 기상반응에 의하여 형성되는 중간상의 낮은 흡?계수에 기인하는 것으로 여겨진다. QMS(Quadruple Mass Spectrometer)분석을 이용하여 두가지 경쟁적 반응을 포함한 전체 반응식을 제시하였다. TDEAT/NH3혼합증착원의 경우 particle이 관찰?지 않았으며 이것은 기상반응의 정도를 효과적으로 조절한데 기인하는 것으로 여겨진다. 결과적으로 반응기체의 예비혼합은 막질 및 도포성 개선과 함께 particle생성억제에 매우 효율적인 방법임을 알 수 있었다.다.

저자
  • 김지용 | Kim, Ji-Yong
  • 이재갑 | 이재갑
  • 박상준 | 박상준
  • 신현국 | 신현국