X-ray 마스크용 WNx 박막 증착에 관한 연구(l)

장철민; 최병호

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X-ray 마스크용 WNx 박막 증착에 관한 연구(l) KCI 등재 SCOPUS

A Study on Deposition of Tungsten Nitride Thin Film for X-ray mask(l)

장철민, 최병호

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295300

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제8권 제2호 (1998.02)
pp.147-153

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

초록

WNx 는 리소그라피 마스크의 흡수체나 VLSI 기술에서 금속연결의 확산방지재로써 주목을 받고 있다. RF마르네트론 스퍼터링법으로 여러 증착변수에서 제조한 WNx 막을 고찰하였다. SiNx 멤브레인 위에 증착된 박막의 결정구조는 질소아르곤 가스유량비(0-30%), 가스압력(10-43mTorr), RF출력(0150W)및 기판과 타겟사이의 거리 6cm에서 증착한 WNx 박막은 비정질이였으며 다른 조건에서는 표면이 거친 다결정질이었다. 비정질 박막은 rms가 3.1Å으로 아주 매끈하여 X-선 마스크용 흡착제로써 적합할 것으로 기대된다.

저자

장철민 | Jang, Cheol-Min
최병호 | 최병호

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