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고집적 소자에 적용되는 저저항 텅스텐 박막에서 응력의 RF power 의존성 KCI 등재 SCOPUS
RF Power Dependence of Stresses in Plasma Deposited Low Resistive Tungsten Films for VLSI Devices
이창우, 고민경, 오환원, 우상록, 윤성로, 김용태, 박영균, 고석중
- 언어KOR
- URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295429
4,000원
한국재료학회지
(Korean Journal of Materials Research)
제8권 제11호 (1998.11)
pp.977-981
pp.977-981
한국재료학회
(Materials Research Society Of Korea)
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