Growth Characteristics of Thick SiO2 Using O3/TEOS APCVD - koreascholar

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Growth Characteristics of Thick SiO2 Using O3/TEOS APCVD KCI 등재 SCOPUS

O3/TEOS를 이용한 후막 SiO2의 성장특성 연구

Lee, U-Hyeong, Choe, Jin-Gyeong, Kim, Hyeon-Su, Yu, Ji-Beom

언어ENG
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295485

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제9권 제2호 (1999.02)
pp.144-148

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

저자

Lee, U-Hyeong | 이우형
Choe, Jin-Gyeong | 최진경
Kim, Hyeon-Su | 김현수
Yu, Ji-Beom | 유지범

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