DC Magnetron 반응성 스퍼터링 방법을 이용한 stoichiometric Ta2O5막의 증착조건에 관한 연구

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A Study on the Deposition Condition for Stoichimetric Ta2O5 Thin Films by DC Magnetron Reactive Sputtering Technique

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

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