다중 음극 전자빔을 이용한 대면적 플라즈마 소스 - koreascholar

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다중 음극 전자빔을 이용한 대면적 플라즈마 소스 KCI 등재 SCOPUS

A Large Area Plasma Source Using Multi-cathode Electron Beam

강양범, 전형탁, 김태영, 정기형, 고동균, 정재국, 노승정

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295596

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제9권 제9호 (1999.09)
pp.861-864

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

저자

강양범 | Gang, Yang-Beom
전형탁 | 전형탁
김태영 | 김태영
정기형 | 정기형
고동균 | 고동균
정재국 | 정재국
노승정 | 노승정

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