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O2 및 h2O를 산화제로 하는 NH3/O2산화의 성장모델 제안 KCI 등재 SCOPUS
A Proposal to Growth Model of NH3/O2 Oxidation with species of O2 and h2O
한국재료학회지
(Korean Journal of Materials Research)
제9권 제9호 (1999.09)
pp.932-936
pp.932-936
한국재료학회
(Materials Research Society Of Korea)
초록
4NH(sub)3+3O2→2N2+6H2O 의 화학반응식을 가지며 O2 및 H2O를 산화제로 하는 NH3/O2산화의 성장모델을 세웠으며, 그 결과 Fick의 제 1 법칙을 기초로 하는 건식 및 습식 산화메카니즘으로 이해되는 Deal-Grove의 산화막 성장모델과 유사한 결과가 도출되었다. 이 성장모델에 의하면 산화제 O2 및 H2O가 상호보완적으로 산화에 영향을 미치므로 산화온도 뿐 아니라 NH3/O2의 유량비도 산화율을 결정한다. rapid thermal processing(RTP)에 의한 산화막 성장실험으로 본 연구에서 제안하는 성장모델을 확인하였으며, NH3분자의 분해에 의해 발생하는 N 원자의 산화막 내부확산을 secondary ion mass spectroscopy(SIMS)로 확인하였으며, Auger electron spectroscopy (AES) 측정결과 N 원자의 존재는 무시할만한 수준이었다.
저자
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