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전해 콘텐사용 알루미늄박의 애칭특성에 미치는 황산첨가의 영향 II. 유전층의 조직 및 임피던스 분석 KCI 등재 SCOPUS
Effects of Addition of Sulfuric Acid on the Etching Behavior of Al foil for Electrolytic Capacitors II. Microstructures of Dielectric Layers and AC Impedance Analysis
한국재료학회지
(Korean Journal of Materials Research)
제10권 제5호 (2000.05)
pp.375-381
pp.375-381
한국재료학회
(Materials Research Society Of Korea)
초록
전해콘텐서용 알루미늄박을 ammonium adipate 용액을 이용하여 65˚C에서 10분간 100V 및 140V로 각각 양극 산화시켜 산화 알루미늄 유전체를 만들었다. 유전층의 두께, 화학양론적 관계, 결정구조 등을 RBS 및 TEM을 이용하여 분석하였고, 알루미늄박의 에칭시 황산 첨가로 인한 표면적의 변화는 임피던스 분석법으로 조사 하였다. 생성된 유전피막은 100V 및 140V의 전압을 사용했을 경우 각각 약 130nm 및 190nm 두께의 비정질로 나타났으며 피막의 알루미늄과 산소원소의 화학양자론적 비는 약 2:3의 비율로 존재했다. 또한 유전피막은 전자빔은 조사에 의해 쉽게 γ-Al2</TEX>O3 형태의 결정질로 변태 되었다. 염산 에칭욕에 황산 첨가시 나타나는 알루미늄박의 표면변화는 임피던스 분석결과와 정전 용략의 변화가 일치하는 경향을 나타냈다.
저자
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