MOCVD 법으로 성장시킨 AlxGa1-xN 박막의 특성분석

김성익; 김석봉; 박수영; 이석헌; 이정희; 허중수

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MOCVD 법으로 성장시킨 AlxGa1-xN 박막의 특성분석 KCI 등재 SCOPUS

Characterization of AlxGa1-xN Thin Film Grown by MOCVD

김성익, 김석봉, 박수영, 이석헌, 이정희, 허중수

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295761

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제10권 제10호 (2000.10)
pp.691-697

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

초록

자외선 검출소자로 응용될 수 있는 우수한 특성을 지진 AlxGa1-xN 박막을 MOCVD 법으로 성장시킨 후 박막의 구조적인 특성을 조사하였다. 사파이어 기판 위에 성장된 AlxGa1-xN의 물리적인 특성을 평가하기 위해 Synchrotron Radiation XRD를 사용하였다. AlxGa1-xN의 두께가 커질수록 박막의 결정성은 증가하였으며 아래층은 Undoped GaN의 결정성과 성장된 AlxGa1-xN의 결정성이 서로 비례적인 상관관계를 가지고 있음을 알아내었다. Al 조성비는 막질에 크게 영향을 주었으며 조성비가 높아질수록 표면 형상은 매우 나빠졌다.

키워드

CVD XRD optical materials thin films

저자

김성익 | Kim, Seong-Ik
김석봉 | 김석봉
박수영 | 박수영
이석헌 | 이석헌
이정희 | 이정희
허중수 | 허중수

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