플라즈마 공정 변수가 TiO2±δ 박막 형성에 미치는 영향 - koreascholar

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플라즈마 공정 변수가 TiO2±δ 박막 형성에 미치는 영향 KCI 등재 SCOPUS

Dependence of the Formation of TiO2±δ Films on Plasma Process Variables

박상기, 강봉주, 이원희, 이재갑

언어KOR
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제10권 제11호 (2000.11)
pp.732-737

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

MOCVD TEMAT high density plasma

저자

박상기 | Park, Sang-Gi
강봉주 | 강봉주
이원희 | 이원희
이재갑 | 이재갑

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