논문 상세보기
KLN 스퍼터링용 타겟의 제조 및 코닝 1737 유리 기판위에 성장시킨 박막의 광학적 성질 KCI 등재 SCOPUS
Target Preparation for KLN sputtering and optical properties of thin films deposited on Corning 1737 glass
박성근, 서정훈, 김성연, 전병억, 김진수, 김지현, 최시영, 김기완
- 언어KOR
- URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295813
4,000원
한국재료학회지
(Korean Journal of Materials Research)
제11권 제3호 (2001.03)
pp.178-184
pp.178-184
한국재료학회
(Materials Research Society Of Korea)
초록
rf-마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 높은 광투과성을 지니며 c-축 배향된 KLN 박막을 제작하였다. 하소 및 소결 과정을 거쳐서 균일하고 안정한 상태의 KLN 타겟을 제조하였다. KLN 타겟은 화학량론적인 조성 및 K가 30%, 60%, 그리고 Li가 각각 15%, 30% 과량된 조성을 사용하였으며 K와 Li의 휘발을 방지하기 위하여 낮은 온도에서 소결시켰다. 제조된 타겟을 사용하여 rf-magnetron sputtering 방법으로 박막을 제조하였으며, 이때 K가 60% Li가 30% 과량된 타겟으로 제조할 때 단일상의 KLN 박막을 얻을 수 있었다. KLN 박막은 코닝 1737 기판 위에서 우수한 결정성과 높은 c-축 배향성을 나타내었으며, 이때 박막의 성장조건은 고주파 전력 100 W, 공정 압력 150 mTorr, 기판 온도 580˚C였다. 가시광 영역에서 박막의 투과율은 약 90% 이고, 흡수는 333 nm에서 발생하였으며 632.8 nm에서 박막의 굴절율은 1.93이었다.
키워드
rf-magnetron sputteringKLNK3Li2Nb5O15thin filmc-axis orientationtungsten-bronze
저자
같은 권호 다른 논문
