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반응성 스퍼터링으로 제조한 Ta2O5/Al2O3 다충박막의 유전특성 KCI 등재 SCOPUS

Dielectric Characteristics of the Ta2O5/Al2O3 Multilayer Thin Films Processed by Reactive Sputtering

최재훈, 오태성
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/295953
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제11권 제12호 (2001.12)
pp.1080-1085
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
Ta2O5/Al2O3multilayerdielectric propertiesleakage current
저자
  • 최재훈 | Choe, Jae-Hun
  • 오태성 | 오태성
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