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ALD법으로 제조된 Al2O3 박막의 물리적 특성 KCI 등재 SCOPUS

Physical Properties of the Al2O3 Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition

김재범, 권덕렬, 오기영, 이종무
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296034
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제12권 제6호 (2002.06)
pp.493-498
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
Atomic layer depositionAl2O3OzoneO3XPSAugerRBS
저자
  • 김재범 | Kim, Jae-Bum
  • 권덕렬 | 권덕렬
  • 오기영 | 오기영
  • 이종무 | 이종무
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김재범, 권덕렬, 오기영, 이종무. (2002). ALD법으로 제조된 Al2O3 박막의 물리적 특성. 한국재료학회지, 12(6), 493-498.

Kim, Jae-Bum, Kwon, Duk-Ryel, Oh, Ki-Young, Lee, Chong-Mu. (2002). Physical Properties of the Al2O3 Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition. Korean Journal of Materials Research, 12(6), 493-498.

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