ALD법으로 제조된 Al2O3 박막의 물리적 특성 - koreascholar

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ALD법으로 제조된 Al2O3 박막의 물리적 특성 KCI 등재 SCOPUS

Physical Properties of the Al2O3 Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition

김재범, 권덕렬, 오기영, 이종무

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296034

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제12권 제6호 (2002.06)
pp.493-498

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

Atomic layer deposition Al2O3 Ozone O3 XPS Auger RBS

저자

김재범 | Kim, Jae-Bum
권덕렬 | 권덕렬
오기영 | 오기영
이종무 | 이종무

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