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복합 티타늄실리사이드 공정에서 발생한 공극 생성 연구 KCI 등재 SCOPUS

Void Defects in Composite Titanium Disilicide Process

정성희, 송오성
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296097
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제12권 제11호 (2002.11)
pp.883-888
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
composite-titanium silicideamorphouspolycrystallinesheet resistancevoids
저자
  • 정성희 | Cheong, Seong-Hwee
  • 송오성 | 송오성
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정성희, 송오성. (2002). 복합 티타늄실리사이드 공정에서 발생한 공극 생성 연구. 한국재료학회지, 12(11), 883-888.

Cheong, Seong-Hwee, Song, Oh-Sung. (2002). Void Defects in Composite Titanium Disilicide Process. Korean Journal of Materials Research, 12(11), 883-888.

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