Cu/Ti/SiO2/Si 구조에서 Ti 층 두께가 Ti 반응에 미치는 효과 - koreascholar

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Cu/Ti/SiO2/Si 구조에서 Ti 층 두께가 Ti 반응에 미치는 효과 KCI 등재 SCOPUS

Effects of Ti Thickness on Ti Reactions in Cu/Ti/SiO2/Si System upon Annealing

홍성진, 이재갑

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296098

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제12권 제11호 (2002.11)
pp.889-893

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

Cu Ti Diffusion Metallization

저자

홍성진 | Hong, Sung-Jin
이재갑 | 이재갑

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