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RF마그네트론 스퍼터링 법에 의해 증착된 SrBi2Nb2O9 박막의 Bi 량의 조절에 따른 특성분석 KCI 등재 SCOPUS

Characteristics of the SrBi2Nb2O9 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering with Controlling of Bi Contents

이종한, 최훈상, 성현주, 임근식, 권영석, 최인훈, 손창식
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296109
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제12권 제12호 (2002.12)
pp.962-966
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
ferroelectricbottom electroderf magnetron sputteringremnant polarizationSBN
저자
  • 이종한 | Lee,, Jong-Han
  • 최훈상 | 최훈상
  • 성현주 | 성현주
  • 임근식 | 임근식
  • 권영석 | 권영석
  • 최인훈 | 최인훈
  • 손창식 | 손창식
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이종한, 최훈상, 성현주, 임근식, 권영석, 최인훈, 손창식. (2002). RF마그네트론 스퍼터링 법에 의해 증착된 SrBi2Nb2O9 박막의 Bi 량의 조절에 따른 특성분석. 한국재료학회지, 12(12), 962-966.

Lee,, Jong-Han, Choi, Hoon-Sang, Sung, Hyun-Ju, Lim, Geun-Sik, Kwon, Young-Suk, Choi, In-Hoon, Son, Chang-Sik. (2002). Characteristics of the SrBi2Nb2O9 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering with Controlling of Bi Contents. Korean Journal of Materials Research, 12(12), 962-966.

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