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반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 CoSi2 layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구 KCI 등재 SCOPUS

Growth Behavior and Thermal Stability of CoSi2 Layer on Poly-Si Substrate Using Reactive Chemical Vapor Deposition

김선일, 이희승, 박종호, 안병태
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296110
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제13권 제1호 (2003.01)
pp.1-5
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
Cobalt polycideReactive CVDThermal StabilityTiN interlayer
저자
  • 김선일 | Kim, Sun-Il
  • 이희승 | 이희승
  • 박종호 | 박종호
  • 안병태 | 안병태
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