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Ferroelectric 캐패시터의 하부전극에의 응용을 위한 IrO2 박막 증착 및 특성분석 KCI 등재 SCOPUS

Growth and Characteristics of IrO2 Thin Films for Application as Bottom Electrodes of Ferroelectric Capacitors

허재성, 최훈상, 김도영, 장유민, 이장혁, 최인훈
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296122
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제13권 제2호 (2003.02)
pp.69-73
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
IrO2: SBTMODRF-magnetron sputtering
저자
  • 최인훈 | 최인훈
  • 이장혁 | 이장혁
  • 장유민 | 장유민
  • 김도영 | 김도영
  • 최훈상 | 최훈상
  • 허재성 | Hur, Jae-Sung
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허재성, 최훈상, 김도영, 장유민, 이장혁, 최인훈. (2003). Ferroelectric 캐패시터의 하부전극에의 응용을 위한 IrO2 박막 증착 및 특성분석. 한국재료학회지, 13(2), 69-73.

Hur, Jae-Sung, Choi, Hoon-Sang, Kim, Do-Young, Jang, Yu-Min, Lee, Jang-Hyeok, Choi, In-Hoon. (2003). Growth and Characteristics of IrO2 Thin Films for Application as Bottom Electrodes of Ferroelectric Capacitors. Korean Journal of Materials Research, 13(2), 69-73.

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