중간층 Ti 두께에 따른 CoSi2의 에피텍시 성장 - koreascholar

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중간층 Ti 두께에 따른 CoSi2의 에피텍시 성장 KCI 등재 SCOPUS

Effect of Ti Interlayer Thickness on Epitaxial Growth of Cobalt Silicides

정성희, 송오성

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296125

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제13권 제2호 (2003.02)
pp.88-93

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

cobalt disilicide Ti interlayer epitaxial salicide Co/Ti bilayer

저자

정성희 | Choeng, Seong-Hwee
송오성 | 송오성

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