BCl3 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs 건식식각 - koreascholar

논문 상세보기

BCl3 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs 건식식각 KCI 등재 SCOPUS

Dry Etching of GaAs in a Planar Inductively Coupled BCl3 Plasma

임완태, 백인규, 정필구, 이제원, 조관식, 이주인, 조국산

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296156

구독 기관 인증 시 무료 이용이 가능합니다. 4,000원

한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제13권 제4호 (2003.04)
pp.266-270

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

ICP GaAs Dry Etching High Density Plasma

저자

임완태 | Lim, Wan-tea
백인규 | 백인규
정필구 | 정필구
이제원 | 이제원
조관식 | 조관식
이주인 | 이주인
조국산 | 조국산

같은 권호 다른 논문