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MOCVD로 제조한 SnO2 박막의 표면반응 특성 KCI 등재 SCOPUS

Characteristics of Surface Reaction of SnO2 Thin Films Prepared by MOCVD

박경희, 서용진, 홍광준, 이우선, 박진성
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296163
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제13권 제5호 (2003.05)
pp.309-312
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
Thin filmsTin oxideMOCVDSurface reaction
저자
  • 박경희 | Park, Kyung-Hee
  • 서용진 | 서용진
  • 홍광준 | 홍광준
  • 이우선 | 이우선
  • 박진성 | 박진성
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박경희, 서용진, 홍광준, 이우선, 박진성. (2003). MOCVD로 제조한 SnO2 박막의 표면반응 특성. 한국재료학회지, 13(5), 309-312.

Park, Kyung-Hee, Seo, Yong-Jin, Hong, Kwang-Jun, Lee, Woo-Sun, Park, Jin-Seong. (2003). Characteristics of Surface Reaction of SnO2 Thin Films Prepared by MOCVD. Korean Journal of Materials Research, 13(5), 309-312.

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