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초 저 에너지 이온주입으로 고 조사량 B 이온 주입된 실리콘의 Deactivation 현상 KCI 등재 SCOPUS

Deactivation Kinetics in Heavily Boron Doped Silicon Using Ultra Low Energy Ion Implantation

  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296180
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
저자
  • 유승한 | Yoo, Seung-Han
  • 노재상 | 노재상