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Si 기판에서 원자층 화학 기상 증착법으로 제조된 Al2O3 및 ZrO2 유전 박막의 결정학적 특성 및 계면 구조 평가 KCI 등재 SCOPUS

Crystallographic and Interfacial Characterization of Al2O3 and ZrO2 Dielectric Films Prepared by Atomic Layer Chemical Vapor Deposition on the Si Substrate

김중정, 양준모, 임관용, 조흥재, 김원, 박주철, 이순영, 김정선, 김근홍, 박대규
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296197
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제13권 제8호 (2003.08)
pp.497-502
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
crystallographic characteristicinterfacial structureAl2O3and ZrO2dielectric filmsatomic layer chemical vapor depositionphase identification
저자
  • 김중정 | Kim, Joong-Jung
  • 양준모 | 양준모
  • 임관용 | 임관용
  • 조흥재 | 조흥재
  • 김원 | 김원
  • 박주철 | 박주철
  • 이순영 | 이순영
  • 김정선 | 김정선
  • 김근홍 | 김근홍
  • 박대규 | 박대규
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