복합 코발트 실리사이드 공정에 따른 게이트 산화막의 특성변화 - koreascholar

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복합 코발트 실리사이드 공정에 따른 게이트 산화막의 특성변화 KCI 등재 SCOPUS

Characteristics of Gate Oxides with Cobalt Silicide Process

송오성, 정성희, 이상돈, 이기영, 류지호

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296234

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제13권 제11호 (2003.11)
pp.711-716

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

cobalt silicide polysilicon gate gate oxide Ti interlayer Ti capping layer salicide

저자

송오성 | Song, Oh-sung
정성희 | 정성희
이상돈 | 이상돈
이기영 | 이기영
류지호 | 류지호

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