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플라즈마 가스와 RF 파워에 따른 NiO 박막의 우선배향성 및 표면형상 변화 KCI 등재 SCOPUS
The Evolution of Preferred Orientation and Morphology of NiO Thin Films under Variation of Plasma gas and RF Sputtering Power
류현욱, 최광표, 노효섭, 박용주, 권용, 박진성
- 언어KOR
- URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296278
4,000원
한국재료학회지
(Korean Journal of Materials Research)
제14권 제2호 (2004.02)
pp.121-125
pp.121-125
한국재료학회
(Materials Research Society Of Korea)
키워드
NiO thin filmpreferred orientationmagnetron sputteringsurface morphologyAFM
저자
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