R.F Magnetron Sputtering법으로 제조한 TiO2 박막의 특성 - koreascholar

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R.F Magnetron Sputtering법으로 제조한 TiO2 박막의 특성 KCI 등재 SCOPUS

Characteristics of TiO2 Thin Films Fabricated by R.E, Magnetron Sputtering

추용호, 최대규

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296395

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제14권 제11호 (2004.11)
pp.821-827

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

titanium oxide thin films growth magnetron reactive sputtering crystallinity phase transition eutectic bond structure

저자

추용호 | Chu, Y. H.
최대규 | 최대규

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