원자층 증착법으로 성장한 HfO2 박막의 제조 - koreascholar

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원자층 증착법으로 성장한 HfO2 박막의 제조 KCI 등재 SCOPUS

Preparation of Hafnium Oxide Thin Films grown by Atomic Layer Deposition

김희철, 김민완, 김형수, 김혁종, 손우근, 정봉교, 김석환, 이상우, 최병호

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296454

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제15권 제4호 (2005.04)
pp.275-280

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

ALD Atomic Layer Deposion hafnium oxide dielectric constant

저자

김희철 | Kim, Hie-Chul
김민완 | 김민완
김형수 | 김형수
김혁종 | 김혁종
손우근 | 손우근
정봉교 | 정봉교
김석환 | 김석환
이상우 | 이상우
최병호 | 최병호

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