Cu/Ti-cappng/NiSi 전극구조 p+/n 접합의 전기적 특성 - koreascholar

논문 상세보기

Cu/Ti-cappng/NiSi 전극구조 p+/n 접합의 전기적 특성 KCI 등재 SCOPUS

Electrical Characteristics of p+/n Junctions with Cu/Ti-capping/NiSi Electrode

이근우, 김주연, 배규식

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296461

구독 기관 인증 시 무료 이용이 가능합니다. 4,000원

한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제15권 제5호 (2005.05)
pp.318-322

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

Ti-capped NiSi contact I-V characteristics thermal stability Cu diffusion barrier

저자

이근우 | Lee, Keun-Yoo
김주연 | 김주연
배규식 | 배규식

같은 권호 다른 논문