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실험 계획법을 이용한 점착방지막용 플라즈마 증착 공정변수의 최적화 연구 KCI 등재 SCOPUS

Optimizing the Plasma Deposition Process Parameters of Antistiction Layers Using a DOE (Design of Experiment)

차남구, 박창화, 조민수, 박진구, 정준호, 이응숙
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296525
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제15권 제11호 (2005.11)
pp.705-710
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
nanoimprintingantistiction layerDOEdesign of experiment
저자
  • 차남구 | Cha, Nam-Goo
  • 박창화 | 박창화
  • 조민수 | 조민수
  • 박진구 | 박진구
  • 정준호 | 정준호
  • 이응숙 | 이응숙
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