논문 상세보기

반응성 스퍼터링법으로 증착된 CoNx 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택셜 CoSi2 성장 연구 KCI 등재 SCOPUS

Epitaxial Growth of CoSi2 Layer on (100)Si Substrate using CoNx Interlayer deposited by Reactive Sputtering

  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296553
구독 기관 인증 시 무료 이용이 가능합니다. 4,000원
한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
저자
  • 이승렬 | Lee, Seung-Ryul
  • 김선일 | 김선일
  • 안병태 | 안병태