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저에너지의 Ar 중성빔을 이용한 Silicon의 Atomic Layer Etching KCI 등재 SCOPUS

Atomic Layer Etching of Silicon Using a Ar Neutral Beam of Low Energy

오창권, 박상덕, 염근영
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296582
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제16권 제4호 (2006.04)
pp.213-217
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
atomic layer etchingALETsiliconneutral beamchlorine
저자
  • 오창권 | Oh, Chang-Kwon
  • 박상덕 | 박상덕
  • 염근영 | 염근영
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