PECVD를 이용한 금속 스탬프용 점착방지막 형성과 특성 평가 - koreascholar

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PECVD를 이용한 금속 스탬프용 점착방지막 형성과 특성 평가 KCI 등재 SCOPUS

Fabrication and Characterization of an Antistiction Layer by PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) for Metal Stamps

차남구, 박창화, 조민수, 김규채, 박진구, 정준호, 이응숙

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296584

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제16권 제4호 (2006.04)
pp.225-230

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

Nanoimprint lithography NIL Anti-stiction layer PECVD plasma enhanced chemical vapor deposition

저자

차남구 | Cha, Nam-Goo
박창화 | 박창화
조민수 | 조민수
김규채 | 김규채
박진구 | 박진구
정준호 | 정준호
이응숙 | 이응숙

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