Dependence of Nanotopography Impact on Fumed Silica and Ceria Slurry Added with Surfactant for Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing - koreascholar

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Dependence of Nanotopography Impact on Fumed Silica and Ceria Slurry Added with Surfactant for Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing KCI 등재 SCOPUS

유신욱, 정재용, 어순철, 김일호

언어ENG
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296598

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제16권 제5호 (2006.05)
pp.308-311

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

nanotopography STI CMP slurry Preston's law

저자

유신욱
정재용
어순철
김일호

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