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연마제 특성에 따른 차세대 금속배선용 Al CMP (chemical mechanical planarization) 슬러리 평가 KCI 등재 SCOPUS
Evaluation of Al CMP Slurry based on Abrasives for Next Generation Metal Line Fabrication
차남구, 강영재, 김인권, 김규채, 박진구
- 언어KOR
- URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296671
4,000원
한국재료학회지
(Korean Journal of Materials Research)
제16권 제12호 (2006.12)
pp.731-738
pp.731-738
한국재료학회
(Materials Research Society Of Korea)
키워드
AlaluminumChemical mechanical planarizationCMPMetallizationAcidic colloidal slurry
저자
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