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연마제 특성에 따른 차세대 금속배선용 Al CMP (chemical mechanical planarization) 슬러리 평가 KCI 등재 SCOPUS

Evaluation of Al CMP Slurry based on Abrasives for Next Generation Metal Line Fabrication

차남구, 강영재, 김인권, 김규채, 박진구
  • 언어KOR
  • URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296671
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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)
제16권 제12호 (2006.12)
pp.731-738
한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)
키워드
AlaluminumChemical mechanical planarizationCMPMetallizationAcidic colloidal slurry
저자
  • 차남구 | Cha, Nam-Goo
  • 강영재 | 강영재
  • 김인권 | 김인권
  • 김규채 | 김규채
  • 박진구 | 박진구
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