ALD법으로 성장한 HfO2 박막의 열처리에 따른 특성변화 - koreascholar

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ALD법으로 성장한 HfO2 박막의 열처리에 따른 특성변화 KCI 등재 SCOPUS

Effects of Post-Annealing on Properties of HfO2 Films Grown by ALD

이재웅, 함문호, 맹완주, 김형준, 명재민

언어KOR
URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/296696

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

제17권 제2호 (2007.02)
pp.96-99

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

Hafnium oxide ALD Atomic Layer Deposition dielectric constant leakage current

저자

이재웅 | Lee, J.W.
함문호 | 함문호
맹완주 | 맹완주
김형준 | 김형준
명재민 | 명재민

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