산소 플라즈마를 이용하여 원거리 플라즈마 원자층 증착법으로 형성된 하프늄 옥사이드 게이트 절연막의 특성 연구

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Characteristics of Hafnium Oxide Gate Dielectrics Deposited by Remote Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition using Oxygen Plasma

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한국재료학회지 (Korean Journal of Materials Research)

한국재료학회 (Materials Research Society Of Korea)

키워드

Remote PEALD HfO2 Gate Dielectric TEMAH

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