NF3 가스는 반도체산업 공정에서 클리닝과 에천트로서 사용되는 고가의 불소기반가스로써 높은 지구 온난화지수를 가지고 있다. 현재 국내에서 NF3 가스는 N2와 혼합된 형태로 추가 정제 과정 없이 대기 중으로 배출된다. 따라서 환경보호 및 높은 부가가치를 위해서 분리·정제를 통한 NF3 가스 재사용이 필요하다. 본 연구에서는 글리세롤과 아세톤을 첨가하여 NF3 분리용 Polysulfone 중공사막의 기공형태 변화를 관찰하였다. 그리고 PDMS, PTMSP, AF 등의 고분자를 지지체 표면에 농도별로 코팅하여 N2/NF3 투과성능을 비교하였다. PDMS, PTMSP, AF를 코팅한 중공사막에서 투과도는 각각 1.94, 6.79, 6.86 GPU를 나타냈고 선택도는 5.10, 2.53, 6.12로 측정되었다.

• 임민수(한국화학연구원 분리막연구센터, 한양대학교 에너지공학과) | Min-Su Lim
• 이평수(한국화학연구원 분리막연구센터) | Pyung-Su Lee
• 박호식(한국화학연구원 분리막연구센터) | Ho-Sik Park
• 남승은(한국화학연구원 분리막연구센터) | Seung-eun Nam
• 박호범(한양대학교 에너지공학과) | Ho-Bum Park
• 박유인(한국화학연구원 분리막연구센터) | You-In Park