해수담수화의 성장과 함께 붕소 제거를 위해서 많은 연구가 진행되고 있다. 흡착제, 이온교환수지 등 많은 방법으로 붕소가 제거되고 있는데, 그 중에서 분리막을 이용하여 제거하는 기술은 높은 선택성과 효율로 인해 빠른 성장을 보이고 있는 기술 중에 하나이다. 붕소 제거는 여러 분리막 중에서 역삼투막이 많이 사용되는데, m-phenylenediamine (MPD)와 trimesoyl chloride (TMC)를 이용한 역삼투막 제조가 현재 가장 많이 사용되는 기술이다. MPD와 TMC를 이용하여 Polysulfone 지지체 위에 polyamide 활성층을 제조하는데, 이를 통해 높은 수투과량과 염제거율을 얻을 수 있다. 본 연구에서는 polyamide 활성층에 표면개질을 이용하여 염제거율 및 보론 제거율을 증가시킬 것이다.

• 이덕로(한국화학연구원 그린화학소재연구본부 분리막연구센터, 연세대학교 화공생명공학과) | Deok-Ro Lee
• 이혜진(한국화학연구원 그린화학소재연구본부 분리막연구센터) | Hye-Jin Lee
• 권세이(한국화학연구원 그린화학소재연구본부 분리막연구센터) | Se-i Kwon
• 채희로(한국화학연구원 그린화학소재연구본부 분리막연구센터) | Hee Ro Chae
• 김종학(연세대학교 화공생명공학과) | Jong Hak Kim