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원자층증착법 (atomic layer deposition, ALD)을 이용한 박막 증착 및 구조체 형성
Atomic Layer Deposition Process for Thin Film Deposition and Coating for the Structural Applications
복합신소재구조학회지
(The Magazine of the Korean Society for Advanced Composite Structures)
제14권 제2호 (2023.06)
pp.21-26
pp.21-26
한국복합신소재구조학회
(Korean Society for Advanced Composite Structures)
목차
1. 서론
2. ALD를 이용한 구조체 형성
2.1 적층 (nano-laminated) 구조
2.2 입자 표면의 균일한 박막 coating을통한 core-shell 구조
2.3 표면 미세 틈새 gap-fill
3. ALD를 통해 증착 가능한 물질
3.1 전구체 흡착 특성에 따른 증착 가능여부
3.2 반응제와의 반응성에 따른 증착 가능여부
4. 결론 및 전망
References
2. ALD를 이용한 구조체 형성
2.1 적층 (nano-laminated) 구조
2.2 입자 표면의 균일한 박막 coating을통한 core-shell 구조
2.3 표면 미세 틈새 gap-fill
3. ALD를 통해 증착 가능한 물질
3.1 전구체 흡착 특성에 따른 증착 가능여부
3.2 반응제와의 반응성에 따른 증착 가능여부
4. 결론 및 전망
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