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Biased Double Arc Plasma CVD법에 의해 제조된 TiC 피복층의 온도와 압력이 미치는 영향에 관한 연구 KCI 등재
A Study on the influence of Temperature and Pressure on TiC Film Deposited by Biased Double Arc Plasma CVD
양영호
- 언어KOR
- URLhttps://db.koreascholar.com/Article/Detail/55318
4,000원
한국기계항공기술학회지(구 한국기계기술학회지)
(Journal of the Korean Society of Mechanical and Aviation Technology)
제5권 제1호 (2003.06)
pp.125-130
pp.125-130
한국기계항공기술학회(구 한국기계기술학회)
(Korean Society of Mechanical Technology)
키워드
CVDPlasmaTicBiased Double Arc Plasma
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
3.1 증착층의 우선 성장 방위
3.2 증착층 표면의 형상변화
3.3 온도에 따른 증착층의 두께변화
3.4 압력에 따른 증착층의 두께변화
3.5 증착층의 경도
4. 결론
참고문헌
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
3.1 증착층의 우선 성장 방위
3.2 증착층 표면의 형상변화
3.3 온도에 따른 증착층의 두께변화
3.4 압력에 따른 증착층의 두께변화
3.5 증착층의 경도
4. 결론
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