논문 상세보기
Biased Double Arc Plasma CVD법에 의해 제조된 TiC 피복층의 온도와 압력이 미치는 영향에 관한 연구 KCI 등재
A Study on the influence of Temperature and Pressure on TiC Film Deposited by Biased Double Arc Plasma CVD
한국기계기술학회지
(Journal of the Korean Society of Mechanical Technology)
제5권 제1호 (2003.06)
pp.125-130
pp.125-130
한국기계기술학회
(Korean Society of Mechanical Technology)
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
3.1 증착층의 우선 성장 방위
3.2 증착층 표면의 형상변화
3.3 온도에 따른 증착층의 두께변화
3.4 압력에 따른 증착층의 두께변화
3.5 증착층의 경도
4. 결론
참고문헌
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
3.1 증착층의 우선 성장 방위
3.2 증착층 표면의 형상변화
3.3 온도에 따른 증착층의 두께변화
3.4 압력에 따른 증착층의 두께변화
3.5 증착층의 경도
4. 결론
참고문헌
저자
같은 권호 다른 논문
